國研院今年首度徵選「研發服務平台亮點成果獎」，由台大材料科學工程學系特聘教授楊哲人率領的團隊獲得特優獎。楊哲人表示，團隊的「次埃解析度（sub-Å）原子結構研究與應用」成果，可以解決半導體最前端的材料問題，不僅可解決晶片效能問題，還有逆向工程的商機，潛力無窮，「連護國神山台積電都要跟我們學習」。
台積電先進製程走在最前端，對外表示預計明年中量產3奈米。據了解，2奈米、1奈米同步進展中，2奈米已經在開發階段，1奈米則正在送樣中。三星則在日前宣布，要趕在台積電前，將新一代 3 奈米 GAA 製程技術商業化，先進製程競賽馬不停蹄。
然而此團隊研究是更遠現有先進製程世代，從埃米（Å）做為研究開端（1奈米等於10埃米）。楊哲仁表示，目前該實驗室可做到0.78埃米，是國內最高解析度。另一方面，商轉時程雖不具體，但台積電檢測供應商包括閎康、宜特等對團隊技術都密切關注。其中，宜特更出錢又出力，委派總經理室材料分析專家鮑忠興亦加入此團隊。
其他研究成員包括：台大材料科學工程學系博士後研究鍾采甫、中山大學電機工程系助理教授陳昶孝、清大材料科學工程系教授闕郁倫、清大工程與系統科學系副教授陳健群、陽明交大電子工程學系特聘教授李佩雯、中興大學精密工程學系教授劉柏良、日本京都工業大學名譽教授Mokoto和Shiojiri；業界則有美商EA Fischoine設備公司，和宜特等，產學界人才匯集。
楊哲人表示，半導體材料是未來先進製程競賽的關鍵。半導體需要控管三項要素：「性質」、「結構」、「製程」，然而業界往往跳過「結構」，只能掌握「製程」和「性質」，但如果不從「結構」去拆解，無法了解「性質」，就無法把材料缺陷從製程中排除。原子層沉積（Atomic layer deposition）就是一例，製程技術可讓材料缺陷減少。據了解，台積電對此技術相當感興趣，未來可望進一步導入台積電竹科新建的研發中心。
楊哲人表示，晶體（crystal）會參雜不同的元素，包含主要元素和次要元素，參與位置正確，功能表現最好。然而，要能看清原子排列和佈局是很困難的，儀器是關鍵。
楊哲人表示，團隊運用國研院提供平台「次埃解析度（sub-Å）原子結構研發服務平台」，並導入關鍵服務平台配備「原子解析度像差修正掃描穿透式電子顯微鏡」，建立全球最完整的航太級鋁合金之原子級析出物相變態顯微結構演化機制、完成下世代二維材料與量子點半導體元件原子結構與成分分析，以及國內首創的「原子解析度三維顯微結構」分析技術，提供國際學術界與產業界全新的視野以了解先進材料之結構與性質之間的連結。
國研院院長吳光鐘表示，國研院建立各種研發服務平台，以協助學研界開發出頂尖的科研成果，期能創造新興產業，貢獻民生福祉。現在最前瞻的科技研究，許多都要依靠團隊合作，以及先進的軟硬體設備，這些正是國研院所建立各種研發服務平台的強項。
