荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長韋尼克25日說，美荷政府正在就該公司外銷中國的新限制措施進行談判，但艾司摩爾今年對中國出口可能會與去年維持相同水準。
路透社報導，在美國施壓下，2019年荷蘭政府限制全球曝光機市場居主導地位的艾司摩爾向中國出售其最先進的極紫外光曝光機（EUV），原因是擔心此類技術被用於軍事用途。
艾司摩爾仍在向中國出售舊款的深紫外光曝光機（DUV），儘管現在這類設備是美荷談判的焦點。艾司摩爾去年對中出售深紫外光曝光機金額總計約21.6億歐元，占總營收的14%，略低於2021年的21.7億歐元。
艾司摩爾公布第4季財報後，韋尼克（Peter Wennink）接受路透社採訪表示，他預期今年對中國的銷售金額將與去年「大致相同」，還說來自中國企業的訂單約占公司400億歐元未交貨訂單的15%。
韋尼克表示，EUV占艾司摩爾銷售金額的50%。他並指出，美國政府去年10月宣布全面新措施，以削弱中國製造晶片的能力後，科林研發股份有限公司（LAM Research）和應用材料公司（Applied Materials）等美國同業才停止向中國銷售設備。
荷蘭總理呂特（Mark Rutte）上週與美國總統拜登會面後表示，雖然荷蘭在安全政策方面與美國立場一致，但不會輕易接受美國的輸中晶片技術出口新限制。
中國是全球最大的晶片消費國。韋尼克表示，美國的出口管制產生的第一個影響是推動中國本土晶片製造商投資產能。
他指出：「他們變得非常務實。」他還說，中國客戶正在投資2014年之前被認為是尖端技術的20奈米、甚至更大的晶片。
