日月光半導體公司K7廠涉嫌排放廢水汙染後勁溪案，29日上午台灣高等法院高雄分院二審宣判，5名被告全部逆轉改判無罪，全案可上訴。高雄地院去年10月依《廢棄物清理法》將廠長蘇炳碩等4人判刑1年4個月到1年8個月不等，均緩刑，而工程師何登陽獲判無罪。經上訴後，5名被告全部否認犯行做無罪答辯，律師團主張日月光排放的是經過處理的廢水，應適用刑責較輕的《水污染防治法》。
一審輕判 檢方上訴
2013年高雄市環保局抽驗後勁溪溪水，發現溪水遭強酸廢水汙染，德民橋下方廢水的pH值為3.02，溯源追查找到日月光K7廠。雖然日月光隨即發布聲明，表示K7廠排放廢水，是因製程鹽酸桶發生異常，溢漏排入廢水處理設施，雖然已緊急處理但仍不及，緊急處理後狀況已獲得控制。也強調絕非惡意將汙水任意排放。
而高雄地方法院一審宣判，廠務處長蘇炳碩等4人被依違反廢棄物清理法，判1年4個月到1年8個月不等徒刑，均緩刑4至5年，並服義務勞務80至120小時，另日月光公司處罰金300萬元，但公共危險罪部份則全部無罪。對此高雄地檢署指出，縱使流放毒物罪舉證有瑕疵，違反廢棄物清理法部分未免也未免判得太輕，法官既認定被告故意違反排放廢水至後勁溪，卻如此輕判，日後恐難收遏阻業者偷排廢水效果。
二審逆轉 法院斥：檢方採樣單一
然而29日二審判決結果出爐，不但逆轉了原先判決結果，5名被告更皆判無罪，高雄高分院公布無罪理由指出，日月光K7廠為經核發水污染防治許可證之「晶圓製造及半導體製造業」，且建置有廢水處理設備及放流管路。2013年10月1日發生污染的原因，是漢華水處理工程公司人員更換鹽酸儲桶管線止漏墊片工程時，因經驗不足，未事先通知K7廠關閉鹽酸儲桶感應器自動補充程式設定，才發生鹽酸溢流進入K7廠廢水處理系統，致各處理池廢水pH值急遽下降。
合議庭指出，日月光K7廠對廢水、污泥的處理方式也不同，K7廠的廢水是經由廢水處理設施處理後以管線或溝渠排放，不屬事業廢棄物範疇，應不適用有害事業廢棄物的認定標準，因此應適用《水污法》，但因《水污法》2015年2月4日才完成修法，而舊法對於本案的「事業已取得許可文件卻排放含有害健康物質之廢（污) 水」行為，並無罰責規定，因此案發時無法可罰。
此外，二審還批評檢方所提底泥及魚體採樣數量單一，並無其他先後時間、同處、同魚塭採樣檢測結果可供對照勾稽，更未能涵括後勁溪其他流域範圍，因此認定無法證明日月光這次事件，已具體達到危及環境生態程度，而有發生侵害結果之可能性，也不符合《刑法》第190條之1「流放毒物罪」構成要件，因此判日月光及5名被告全部無罪。
