隨著半導體製程的日新月異,晶片確實變的體積更小、性能更強、功耗也有顯著改進。不過製造新製程晶片的極紫外光微影設備(EUV),卻是一頭吃電沒有底線的耗能野獸,這讓《彭博新聞社》質疑,像台灣、南韓這些高度倚靠半導體產業的國家「電到底夠不夠」,若要兼顧減碳而放棄火力發電,肯定更將前途多難。
《彭博》26日在綠能系列報導中指出,製造先進半導體的設備可說是現代工程的一項奇蹟。這種被稱為極紫外光微影設備(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV)的機器,可以用人眼不可見的光波照射晶圓,將光罩上的電路圖案轉印到晶圓的光阻劑塗層,並且達到奈米等級的精確程度。這種技術使用強大的雷射光源脈衝擊中錫的細小液滴,將其轉變成電漿,然後發出所需波長的光。