農曆春節期間，美國在半導體晶片領域對中國發起的限制進一步升級。
根據彭博社報導，美國、日本及荷蘭三國高層1月27日在華盛頓就半導體議題達成協議，日本和荷蘭將施行美國政府要求並已啟動的部分對中出口半導體設備的管制。
知情人士告訴美媒，談判就限制向中國出口先進的極紫外光刻機等產品達成協議。
其中最引人矚目的是，荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）可能已經同意不會向中國出售製造成熟製程晶片的光刻機DUV，預計造成中國自主製造晶片的腳步減速。這也表示將擴大目前已經禁止運往中國的芯片製造設備的範圍和類別，從高階晶片設備擴大到成熟製程的中低階晶片設備，有分析說，此舉會深深打擊到中國中芯國際及華虹半導體等半導體公司。
作為製造半導體晶片的關鍵設備，光刻機一般分為三種，即最早的UV（紫外線光刻機），和後來的DUV（深紫外線光刻機）以及EUV（極紫外線光刻機），其中EUV用於7奈米及以下先進晶片製造工藝。
台北智庫台灣經濟研究院研究員劉佩真告訴BBC中文, 美國與荷蘭的協議落實對於中國半導體業的發展無疑是一大重挫。「畢竟先前EUV機的限制已影響到先進製程的發展，DUV設備的禁止將再限制中國成熟製程的產出。」
她說，台灣則可望受益於中國成熟製程擴產的進程受到阻礙，加上國際客戶對於中國產出的不確定性，因而可望有轉單的效應。預計在此波去庫存化後可看到較為顯著的轉單紅利。
不過 劉佩真也強調，日本與荷蘭半導體設備商原先出貨給中國的比重並不小，以ASML來說，中國為其第3大客戶，因此美國該如何彌補這些廠商因出口禁令導致的損失，將是此協議能否落實及持久的重點。
艾司摩爾則提告給中國媒體財新網一份聲明中稱，與美國協議正式生效前，仍需細化具體內容並付諸立法，需一定時間。該公司稱禁令不限於先進製程的光刻系統。
彭博社資料說明，若停止向中國銷售光刻機，ASML 的銷售額可能會減少 5-10%，美商應用材料公司則有25-30% 的銷售額來自中國客戶。
荷蘭日本入團
此次協議震撼半導體界，原因首先是美國布陣拉攏國際盟友，遏止中國半導體的具體對象已從晶片（譬如施壓台灣台積電禁售高階晶片給中國）延申到生產晶片的設備。
目前全球半導體設備供應商，業務規模最大的前6家分別為美商應材（Applied Materials）、荷蘭ASML（艾司摩爾）、日商東京威力科創（TEL）、美商柯林研發（Lam Research）、美商科磊（KLA）及日商尼康（Nikon）。
