華爾街日報》專訪艾司摩爾新任CEO:中美晶片戰越演越烈,光刻機巨擘該如何應對

2024-06-07 10:30

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富凱說,一些決策者的決定一定程度上受到了恐懼和缺乏理解的影響,但他承認,對於官員們來說,「很難做到周全」。

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他表示:「我們的作用不是搞政治,也不是決定什麼是對的,什麼是錯的。」

他警告說,限制措施可能會產生意想不到的後果。例如,阻止艾司摩爾在中國維修某些機器並不能阻止這些機器製造晶片,由此產生的後果是,艾司摩爾將不再知道該公司的所有工具在哪裡以及這些工具發生了什麼。

他說:「如果我們不在那裡,我們就失去了控制。」

據與富凱共事過的人說,富凱在艾司摩爾內部一直倡導全球技術合作,他警告供應鏈斷裂會造成低效。這些知情人士還說,富凱在艾司摩爾工作期間似乎更樂於解決技術方面的難題,而不是處理政治問題。

對艾司摩爾而言,對華出口進一步受限是一大擔憂。今年第一季度,對華出口佔到艾司摩爾系統銷售額的49%,儘管出現了更廣泛的周期性下滑,但中國市場對不那麼先進的設備的需求依然強勁。

富凱說,限制措施也會讓中國更有動力開發自己的高端技術。富凱表示,「施加的限制越多,就越會促使對方自力更生。」

這一點已在去年表現出來,當時華為技術有限公司(Huawei Technologies Co.)發布了新款智慧型手機Mate 60 Pro,使用了先進的國產晶片,而美國限制措施要阻止中國製造的就是這種晶片。儘管美國商務部長雷蒙多(Gina Raimondo)在4月份稱華為的晶片比美國落後好幾年,但Mate 60 Pro的推出還是讓美國官員對美國出口管制措施的有效性憂心忡忡。

如果不使用艾司摩爾的高端設備,的確也有可能製造出像華為所用的這種先進晶片,但後者的工藝成本較高,而且難以大規模生產。

富凱面臨的另一個挑戰是如何維持艾司摩爾在晶片生產設備領域的主導地位。

巴克萊銀行(Barclays)分析師Simon Coles說:「艾司摩爾擁有全球最先進的晶片生產工具,但人們會問,『下一個最先進的設備是什麼?』」

艾司摩爾的最新設備名為High NA EUV(高數值孔徑極紫外)系統;數值孔徑是一個用來衡量聚光能力的指標。英特爾(Intel)最先入手了一台;這種新設備花費超3.5億歐元,合3.81億美元左右。

該公司已表示,其下一次技術飛躍可能是一種可以在晶片上打印更小特徵的機器,該公司稱之為Hyper NA(超級數值孔徑)。富凱說,客戶在未來幾年不會需要這種帶有未來主義色彩的設備。

在那之前,艾司摩爾料將受益於市場對較小、性能較強晶片日益成長的需求,以及美國和歐洲旨在大力促進晶片製造的支出。

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