隨著光罩數的增加，半導體總製程循環的次源的弱功率，每小時的晶圓處理量只有一半左右。換言之 EUV 設備的性價比低，對比於 ArF Emergion 設備只有十分之一的水準。不過目前使用 EUV 設備是克服日益惡化的多重曝光缺點的必然選擇，並非因為 EUV 設備的生產率好才如此。
第二，因為目前還處於引進初期，EUV 微影製程也仍然存在技術的困難點。不僅 EUV 設備自身硬體上的問題仍有很大改進空間，相關零部件、材料也存在諸多難題（參考圖 5）。
簡單來說，為了正式引進 EUV 設備，需要由多層透鏡和曝光吸收層（Absorber）組成的無缺陷光罩，超薄膜、高強度、高均勻透射率的光罩護膜（Pellicle），以及高解析度、低照射劑量（Dose）、低氣體釋放度、平滑線條邊緣（Edge）的光阻劑。
另外，最重要的是基於更短的曝光波長、真空環境和超精細圖案，EUV 製程需要發展高難度的良率管理和測試技術。
這就像是為了躲避獅子而逃跑，結果遇到了老虎一樣，為了避免多重曝光，而引進 EUV，不過 EUV 卻也出現不少需克服的難題。
第三，雖然 EUV 製程還存在許多問題，但購買這台設備本身就不容易。如前述所言，EUV 設備在全世界只有艾司摩爾能供應。因此三星電子、台積電、 SK 海力士、Intel 等半導體企業不得不密切關注艾司摩爾的 EUV 產量。
但事實上艾司摩爾也無法生產出如自己所願的 EUV 設備。舉例來說，做為 EUV 設備最關鍵零組件的鏡頭由德國的卡爾蔡司公司（Carl Zeiss）所供應，卡爾蔡司公司的鏡頭產量由於生產設備不易增加、以及需依賴熟練員工等因素，很難快速提高產量。因此艾司摩爾在 2022 年生產的 EUV 微影設備只有 55 臺左右，預計今後兩年內也很難大幅增加。
這裡要告訴大家的關鍵內容是，因為微影製程的困難，DRAM 生產成長率正在下降，儘管有 EUV 製程的應用，但此一問題仍未獲得解決。這種供應上的制約在半導體記憶體需求成長率下降的情況下，也起到了維持業況平衡的作用。
當然，今後如果 EUV 設備價格急遽下降，每小時晶圓總處理量增加，同時相關零組件和材料情況得到明顯改善的話，那麼半導體產量成長率也有可能恢復到以前高水準的可能性。在此種情況下，如果沒有出現大幅增加半導體記憶體需求的動因，那麼半導體供應過剩問題就可能被凸顯出來，因此這是日後還需要再觀察的問題。
作者介紹：宋明燮（송명섭）
韓國半導體權威分析師。
在韓國高麗大學主修英國語文學系，而後進入現代電子（現SK海力士），破例以文科生身份，在技術行銷部門展開職場生活。參與過現代電子和LG半導體之間的合併工作，其後於2001年起，擔任證券公司半導體負責分析師。從KGI證券、Meritz證券、Good Morning新韓證券，直至現在的Hi投資證券，這二十多年來，他只專注於半導體產業分析。身為業界最資深的分析師，2021年12月時，被韓聯社旗下的金融機構Yonhap Infomax介紹為8名分析大師（Guru）中的半導體分析權威。
特別專注於總經面，側重觀察景氣指標，這樣的觀察角度有別於其他分析師。韓國的股市氛圍向來傾向於不做消極股價預測，在這種環境下，他卻以冷靜判斷股價而聞名。
本文經授權轉載自樂金文化《外資這樣買半導體股：最強半導體分析師教你看懂產業週期，台積電、聯發科、聯電……選股+進場+出場，一次搞定！》
責任編輯／郭家宏
