光學微影與檢測技術，是摩爾定律能夠延續、晶片的密集度與運算效能得以保障的關鍵技術之一。2001年前後，隨著半導體工藝的演進，微影技術遇到了瓶頸，直到台積電前研發副總經理林本堅解決了這一難題。
林本堅出生於越南，高三時獨自一人到台灣新竹中學求學，次年考上了台灣大學電機系，畢業後到美國俄亥俄州立大學求學。儘管性格溫和、待人和善，但是林本堅在技術上需要攻堅克難時，卻又能不落窠臼地突破重重障礙。
林本堅很小的時候，就表現出對光學的興趣。13歲時母親將一台老式相機送給他，他利用相機成像原理把它改成放大機。「我把父親的照片放上去，又弄一個玻璃片，畫了鬍子，兩張疊在一起，就合成出爸爸長鬍子的照片。」
1970年至1992年，林本堅在IBM工作，其間參與了1微米、0.75微米、0.5微米光刻技術的研發，他說：「我們在IBM做研究，一定要比世界早幾步。IBM就是有這種『壞習慣』──凡事要領先。我自己也是這種個性，才會在IBM待這麼久。」1975年，林本堅做出當時光刻技術最短波長的光線，他把它命名為「深紫外線（Deep Ultra-Violet，簡稱DUV）」，後來成為光刻顯影技術的主流。
2002年，林本堅在比利時舉行一場國際光電學會技術研討會上拋出了他的觀點。本來，林本堅受邀參會，只是想介紹一下浸潤原理。但是，林本堅演講完後，拋出「不得了，我找到了134奈米波長的光波」這段話，大家聽到134，全都睜大眼睛，把原本討論的157奈米都丟一邊，全部圍繞在134浸潤式的話題上。
原來，林本堅認為，與其在157奈米上「撞牆」，不如退回到193奈米波長，將介質從空氣改為水（以水為透鏡，在晶片與光源間注入純水，波長光束透過介質「水」後縮短成更短波長），使光束波長縮短至134奈米。林本堅的這一構想，從原理上看並不複雜：正如把筷子插入盛水的玻璃杯後，水裡的筷子看上去折彎了，193奈米波長的光束透過介質水，就能縮短至134奈米。
不過，研討會後，業界一開始並不認可林本堅的策略。表面上看，反對方一開始列舉的理由有很多是技術性的，例如利用水作介質容易被污染，而且水中的氣泡會影響曝光等。但是，從更深的層面看，這意味著他們已經投入數十億美元研發費用的「幹式」微影前功盡棄。對此，台積電前共同營運長蔣尚義回憶道：「（當年）確實有大公司的高層主管表達嚴重關切，希望我能管管他（林本堅），不要攪局。」
最後「偏執狂」林本堅的構想，得到了蔣尚義和張忠謀的支持，而他自己也在積極對外交流，說明下一代技術應該改變策略，使用浸潤式光刻機技術的性價比更高！他說：「像下棋一樣，要先想好後面好幾步。把所有可能的步驟都一直想下去，（直到）想不到可能。」
