中微在收益報告中披露，它的一些設備已經進入生產線，用於生產採用5納米技術的先進晶片。其蝕刻設備用於去除矽晶片表面多餘的材料。
一位不願透露姓名的中國半導體分析師說，中國製造的晶片設備質量提高的速度比他預期的要快，估計比他原先估計的提前了兩年。
他說：「中國半導體設備領域肯定取得了巨大進步，這反映在強勁的收入增長指標上。」
光刻技術存在挑戰 但沒有阻止中國企業取得一些突破
與此同時，也仍存在一些痛點，特別是光刻技術，它需要極其複雜的光學技術和工藝精度。中國一直無法採購到製造最先進晶片所需的極紫外（EUV）光刻機，而美國現在甚至禁止一些不太先進的深紫外（DUV）光刻系統進入中國。
華泰證券的報告顯示，2023年的前8個月，在眾多光刻設備招標中，只有一家中國公司中標。
路透社根據中國海關數據計算，1月至8月，中國從荷蘭進口的光刻機及其零部件同比增長81.2%，達到33億美元。
荷蘭的ASML公司是歐洲最大的科技公司和先進設備製造商，該公司周三報告稱，對華銷售額佔其2023年第三季度收入的近一半。
但光刻技術的挑戰並沒有阻止中國企業取得一些突破。分析師認為，華為技術公司和中芯國際通過調整仍能從ASML購買的DUV設備，為Mate60Pro手機製造出了先進的晶片。
白橡資本（White Oak Capital）投資總監Nori Chiou表示：「本土廠商仍缺乏提供EUV等全套設備的能力。」他表示，中國製造商專注於覆蓋成熟的節點設備。他說：「要看到中國製造的先進半導體設備，還有很長的路要走。」（路透社）
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責任編輯/周岐原
