雖然歐盟通過了「歐洲晶片法案」（European Chips Act，ECA）等措施，希望藉此鼓勵業者在歐盟設立半導體廠、提高歐洲晶片自製比重，以降低對亞洲與美國晶片的依賴，但歐盟各地的半導體成長仍是史上新低，德國英特爾（Intel）晶圓廠等大型計劃也因其財務問題暫時喊卡。對此，半導體大廠艾斯摩爾（Advanced Semiconductor Materials Lithography，以下簡稱ASML）執行長也直言，目前市場仍需中國製造的傳統晶片。
就算中國技術落後10年，也能滿足歐盟各國的供需缺口
根據德國媒體《商報》（Handelsblatt）報導，ASML執行長富凱（Christophe Fouquet）受訪時坦言，歐洲各國自產晶片目前只能滿足市場總需求的50%，為了填補供需缺口，世界仍需中國生產的「傳統晶片」。
「阻止他人生產你所需的東西是沒有意義的；對於俄羅斯天然氣，人們已經明白必須找到替代品，但對於晶片，目前還沒找到它的替代品。」富凱認為，若其他大國要對中國實施進一步的限制，則必須先在本國製定半導體生產計劃，來滿足供應鏈、產業的需求。
不過，富凱也直言，若是從如今的先進晶片來看，中國的晶片製造技術仍落後美國10年，這也是中國不在先進晶片技術領域最為活躍的原因；他認為，在半導體技術方面，中國還有很長的路要走，但考慮到其對傳統晶片製程的熟練程度，也讓中國處於輕微優勢。至於中國是否可以重新製造EUV時，富凱則表示，鑑於開發過程的複雜性，目前中國還遠遠不可能。
EUV技術是什麼？
EUV即「極紫外光刻技術」（Extreme ultraviolet lithography），是目前最先進的晶片製造技術之一。EUV光刻機利用高頻光波來打印微米級別的晶片晶體管，使晶片能夠擁有更高的性能和更小的尺寸，這項技術目前被廣泛應用於高效能運算（HPC）、AI、智慧手機和先進的軍事設備中。
