拜登（Joe Biden）政府成功把日本和荷蘭拉上對華晶片出口限制的戰車，這是美國外交的一個勝利。但維持這一戰略將需要做實質性的工作。
日本和荷蘭上周五同意與美國一道，限制向中國出口先進製程晶片製造設備。這三個國家在先進製程半導體生產設備的製造方面佔主導地位，這樣一來，該計劃可能使中國更難發展自己的晶片產業。
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日本和荷蘭在一種被稱為光刻的製造工藝上尤其佔優勢：即用光在晶圓上刻印微小電路的工藝。荷蘭製造商艾司摩爾（ASML Holding NV）實質上壟斷了用於製造最尖端晶片的極紫外光刻（EUV）工藝所需設備的生產。該公司已停止向中國出口EUV光刻機。
但由於拜登政府去年10月擴大了對華晶片相關出口限制，荷蘭和日本一些比較老的技術可能也要受到限制，從而使美國的措施奏效，並避免出現由美國公司獨自承受影響的局面。日本尼康（Nikon）與艾司摩爾競爭，為一種名為深紫外光刻（DUV）的技術工藝提供零部件，DUV比EUV低一個檔次。上周五的協議可能至少會限制日本和荷蘭公司出口某些型號的DUV光刻機。
不過，荷蘭和日本政府迄今對該協議的實際細節保持沉默，這很能說明問題。這兩個國家可能擔心來自中國的反擊，中國一直是晶片製造工具的大客戶。儘管艾司摩爾沒有向中國出口價值1.5億美元的EUV光刻機，但2022年該公司系統的銷售額中約有14%來自中國。在限制程度的問題上，日本和荷蘭也可能與美國還存在一些分歧。
最初的影響很可能有限，儘管這也許會導致建造接近尖端工藝生產設施的難度大大增加，而且還可能對一些現有部件的維修構成挑戰。但與以往的單打獨鬥不同，現在美國最終還是說服盟友加入到遏制中國晶片雄心的戰略之中。這本身就值得關注，尤其是在歐洲與美國正因拜登政府的綠色技術補貼而捲入另一場爭端的背景下。
如果美國及其盟友同意進一步強化對華限制，可能還要使用更多手段。一些分析人士稱，當前的限制措施可能遠遠不夠。SemiAnalysis首席分析師Dylan Patel在一份簡報中表示，阻止向中國出口新工具是不夠的，因為中國仍可使用現有機器。例如，他建議限制光刻技術中使用的光敏材料光刻膠的出口。日本公司是製造這種材料的領導者。日本的東京電子（Tokyo Electron）在製造塗布顯影設備方面處於主導地位。這種設備用於在晶圓上塗抹光刻膠以及使其顯影。
美國沒有跟中國單挑去打這場技術冷戰，而是向盟友尋求幫助，這是明智做法。這些最新的限制措施不會完全束縛住中國的晶片產業，但發出了一個盟國之間相互團結的強烈信號，甚至可能預示未來將有進一步措施。對於中國政府和中國晶片業者來說，這可能是最新一輪攻勢中最令人擔憂的方面。
