對於科技業，如果要避免犯同樣的錯誤，針對問題，解決問題，這樣扁平、直接的文化是最適合的。
「艾司摩爾研發生產出世界上最複雜的機器，靠的是集體的智慧。」海英克指出，艾司摩爾使用的零件有8成外包，例如德國知名光學系統公司Zeiss和Trump，以及美國的公司，建立穩固的供應鏈。以EUV（極紫外光曝光機）為例，每天24小時運轉，如果發生問題，必須相關供應鏈廠商、客戶集體的智慧共同來解決，這麼複雜的機器無法靠艾司摩爾自己一家來完成。
綜觀半導體發展的歷史，晶片的體積不斷縮小，目前已到了奈米的階段，而且功能更強大，效率更高，獲利性也提高。海英克指出，大約在2000年初期，半導體大廠都體認到，如果繼續落實摩爾定律，每兩年要將單位面積上的電晶體數量加倍，那麼必須為曝光機尋找新的強大光源。
所謂EUV是指以極紫外光為光源的曝光機。艾司摩爾掌握EUV百分之百的市占率，為何只有艾司摩爾做得出來？海英克指出，英特爾在1997年籌組科技聯盟，由摩托羅拉、超微（AMD）、美國能源部等組成，英特爾最早研發出曝光機雛型，決定授權給多家公司生產，當時以美國公司優先，由美國半導體設備公司SVG取得授權，而日本公司被排除在外，於是來自荷蘭的艾司摩爾取得授權，後來艾司摩爾併購了美國半導體設備公司SVG，在果決策略下，艾司摩爾幾乎獨占全球曝光機市場。
為曝光機尋找新光源 艾司摩爾8年燒掉1.75兆
研發EUV曝光機過程中，最困難的是光源，對艾司摩爾而言，這是一大賭注。海英克指出，在2000年之前，當時沒有一家做得出來，而艾司摩爾也沒有把握。這個技術究竟有多複雜？「極紫外光在自然界只有來自太陽，艾司摩爾必須運用像噴射機起飛時的高速把雷射光打出，以每秒50000次射擊液態錫滴，創造出電漿體以產生極紫外光，而且必須在真空下，24小時內持續進行。這簡直是不可能的任務。」
海英克指出，艾司摩爾前後花了8年才研發成功，燒掉500億歐元（相當新台幣1.75兆元）。由於成功研發出EUV曝光機，使得摩爾定律能夠延續。不過，最初艾司摩爾不知道要花這麼長時間，耗費如此龐大經費，研發過程中，包括艾司摩爾與客戶等，幾乎快失去信心，但艾司摩爾鍥而不捨，最後終於成功了。
新冠疫情過後，各國大舉興建晶圓廠，艾司摩爾訂單暴增。以2023年為例，各國規劃投入晶圓廠總額逾3000億美元。海英克指出，預估未來10年，艾司摩爾的規模將倍增，營收將從276億歐元成長至600億歐元，員工人數從4.2萬人成長至8萬人，如此將超出艾司摩爾所在的荷蘭小鎮費爾得霍芬（Veldhoven）的負荷。
