荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾與台積電建立緊密的合作關係，如今在地緣政治壓力下，兩大巨頭處境極為類似。人才是創新的關鍵，由於許多國家追求自給自足一條龍模式，面臨嚴重的人才荒，假設三大主要國家朝向一條龍情況下，人才短缺規模將增為15倍，各國若要自行籌備半導體人才，幾乎是不可能的任務。
當年協助艾司摩爾打敗競爭對手的關鍵人物、清華大學半導體研究學院院長、台積電前研發副總經理林本堅接受《風傳媒》專訪時表示，「地緣政治緊張使得許多國家追求自給自足一條龍模式，如此將使得成本上揚、獲利下降，人才短缺問題更加嚴重。」
林本堅為美國國家工程院院士、中研院院士，曾於IBM工作22年，2000年加入台積電，2002年研發出193奈米浸潤式微影技術，讓台積電在55奈米之後跳躍成長六個技術世代，成為世界領先者，改變了半導體產業的發展方向，被譽為「浸潤式微影之父」，今年4月獲頒總統創新獎。
研發浸潤式微影技術 幫助艾司摩爾打敗競爭對手
當年林本堅研發193奈米浸潤式微影技術，在業界造成轟動，這項技術為艾司摩爾帶來大利多，繼續保持領先日本競爭對手。
其實，全球當時的研發方向都朝向157奈米，整體投資額遠超過10億美元，可以想像，當時要說服曝光機台的廠商研發並量產浸潤式機台，困難重重。後來這些曝光機台廠商如何改變策略？
林本堅透露當年的秘辛，他曾向兩家半導體設備廠商遊說，希望朝向浸潤式微影技術發展，但兩家廠商最初都拒絕，後來日本尼康先同意，接著艾司摩爾改變立場，終於答應，於是開啟了半導體浸潤式微影的時代。
浸潤式微影技術所使用的光源是深紫外光（DUV）。當時，林本堅並不看好極紫外光（EUV）微影技術，認為這很難做出來，不僅燒錢且浪費時間。沒想到艾司摩爾後來成功研發出極紫外光（EUV）微影設備，獨霸全球。林本堅說，「的確很厲害。」
為何艾司摩爾能夠成功研發出極紫外光（EUV）微影技術？林本堅直言，「關鍵人物是艾司摩爾前總裁暨科技長布林克（Martin van den Brink），他非常有領導力和願景，有決心、眼光，把錢和研發放在對的地方。」
布林克是艾司摩爾創立時元老級人物。為了研發EUV曝光機，布林克砸了16億美元，把美國一家半導體設備公司SVG買下來，接著，由於光源方面一直沒有突破，於是又買下另一家美國公司Cymer，同時派數百位工程師進駐研發。由於布林克的決心、眼光且把錢和研發放在對的地方，最後艾司摩爾終於成功做出地表上最複雜的機器—極紫外光（EUV）曝光機。
