新加坡投資專家王國輝近日表示，中國的中芯國際具備資金、人才和龐大內需市場三大優勢，有望追趕晶圓代工巨頭台積電，雖然當前技術仍存在瓶頸，但若成功研發國產EUV光刻機，全球晶片戰爭或將迎來重大轉變。
哈工大突破13.5奈米EUV光源技術
近日哈爾濱工業大學科研團隊宣布成功突破13.5奈米極紫外光源技術，填補了中國在EUV光刻機關鍵技術上的不足。該技術採用放電等離子體方式，為國產EUV光刻機的研發與量產注入信心，並助力中芯國際和華為等企業在先進製程上的進步。
極紫外光刻機是晶片製造的核心設備，由荷蘭ASML等西方企業主導。雖然中國晶片產業在7奈米製程上取得進展，但突破更先進製程仍需EUV光刻機的支持，而哈工大此項技術創新，與ASML和德國技術採用不同的技術路徑，被認為是中國國產EUV誕生的重要轉折點。
龐大內需市場，助力規模經濟實現
同時，據《快科技》報導，新加坡畢盛資產管理創始人兼聯席首席投資官王國輝分析，晶片製造是一場資本密集型遊戲，單個晶圓代工廠的建設成本動輒超過100億美元（約新台幣3271億元），然而，晶圓代工龍頭中芯國際因擁有中國政府的大力支持，資金儲備相對充足。
此外，每年中國培養約500萬理工科畢業生，為中芯國際提供了源源不絕的工程人才，這些都為其追趕台積電提供了堅實基礎。
王國輝指出，與其他晶片製造商需大舉開拓西方市場不同，中芯國際可專注於滿足中國龐大的內需市場，且中芯國際依賴國內市場即可實現規模經濟，為其提供了在競爭中立於不敗之地的條件。他認為，這種內需驅動的模式能有效降低國際市場波動對企業發展的影響。
國產EUV光刻機成關鍵
儘管中芯國際具備強大的資金與人才優勢，但技術瓶頸仍是其發展的重大挑戰。王國輝表示，尖端節點的晶片生產離不開荷蘭ASML公司的EUV光刻機，而美國的技術封鎖使中國無法獲得這些先進設備。
然而，王國輝強調，只要中國公司成功開發出自主研製的EUV光刻機，美國對中國的「晶片戰爭」將宣告結束，這一技術突破將徹底改變目前晶片產業的全球競爭格局。
