謝錦芳專欄:艾司摩爾敢向老闆說不的女性主管

2024-09-08 06:50

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新一代曝光機光罩平台模組加速度高達32G,史東斯形容,這相當於戰鬥機加速率的5倍。在光源方面,CO2雷射以每秒5萬次的速度擊中約1/3人類頭髮寬的錫滴,以產生極紫外光(EUV)。而錫電漿要加熱到攝氏22萬度,相當於太陽表面溫度的40倍。

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生成式AI驅動資料中心快速成長,能源消耗是個棘手難題。史東斯表示,新一代曝光機具有節能的功能。半導體先進製程導入EUV和High NA EUV微影技術,預估到2029年,每一片晶圓使用100度電,整體製程則可以節省200度電。

艾司摩爾新一代曝光機High NA EUV從研發到推出產品,前後長達10年時間,令史東斯最感到驕傲的是,「過去10年來,負責新一代曝光機近3000人團隊,雖然碰到無數瓶頸,團隊展現合作與堅定的毅力,始終不放棄,終於成功推出這項超級複雜的機器。」

艾司摩爾最新一代曝光機 High NA EUV 簡化製造工序,可提升產能,降低每片晶圓生產的能耗。 ( 照片由 ASML 提供)
艾司摩爾最新一代曝光機 High NA EUV 簡化製造工序,可提升產能,降低每片晶圓生產的能耗。 ( 照片由 ASML 提供)

主管鼓勵員工勇於思辯 有助找出最佳的解決方案

艾司摩爾相互挑戰的企業文化,究竟如何形成?史東斯表示,艾司摩爾的座右銘是3C,包括合作(collaborate)、關心(care)、思辯與挑戰(challenge)。工程師們總是認為自己有最佳解決方案,艾司摩爾鼓勵大家勇於思辯、相互挑戰,這樣可以獲得最佳的解決方案,這也是荷蘭的文化,非常扁平化。她以自己為例,過去經常挑戰前任技術長(CTO)布林克(Martin van den Brink),而布林克就是帶動這項思辯與挑戰的人。

「只要你認為自己有道理,公司鼓勵你說出來。」她強調,大家平時養成互相思辯的習慣,透過相互挑戰,以找出更好的解決方案。

荷蘭是個非常重視工作與生活平衡的國家,Greet Storms身為女性高階主管,如何平衡工作與生活?她坦承,「自己每周工作逾60小時,由於專案有時效,通常必須盡全力在限期內完成,而完成某項專案之後,會讓自己與團隊放鬆一下。」

她認為,「不要把自己逼太緊,否則長期在高壓之下,很容易累垮。」不過,她也強調,自己熱愛這項工作,所以不會去嚴格區分工作與生活。

史東斯個性開朗,充滿自信,早在2015年就曾來到台灣,當時艾司摩爾與台積電有一項重要的合作計畫。身為高科技產業少數的女性主管,她鼓勵女孩從小培養對科學的興趣,如果有更多女性投入科學科技的領域,那麼未來科技產業女性主管比例才可能進一步提升。

站在半導體設備最前沿,艾司摩爾研發製造出地表最複雜、昂貴的機器,同時需要最擅長溝通的主管做為客戶與研發團隊的橋樑,溝通能力極強、擁有良好EQ的史東斯成為最佳人選。不一樣的企業文化,培養出不一樣的人才。這也是艾司摩爾的成功密碼。

*作者為資深媒體人

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